포스폰산 기를 갖는 블록 중합체 및 이의 미용 용도
본 발명은 유리 전이 온도 (Tg)가 40℃ 이상이고 단량체 CH = C(R)-COOR(여기서, R= H 또는 메틸이며, R= C내지 C시클로알킬 기임)로부터 수득되는 제1 블록; 및 유리 전이 온도 (Tg)가 20℃ 이하이고 비닐포스폰산 및 단량체 CH = C(R)-COOR(여기서, R= H 또는 메틸이며, R= 선형 또는 분지형 C내지 C비치환 알킬 기 (tert-부틸 기, 또는 메톡시에틸 기는 제외됨)임)로부터 유도되는 제2 블록을 포함하는 블록 중합체에 관한 것이다. 또한 본 발명은 그러한 블록 중합체를 포함하는 미용 조성물...
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Format | Patent |
Language | Korean |
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24.08.2018
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Summary: | 본 발명은 유리 전이 온도 (Tg)가 40℃ 이상이고 단량체 CH = C(R)-COOR(여기서, R= H 또는 메틸이며, R= C내지 C시클로알킬 기임)로부터 수득되는 제1 블록; 및 유리 전이 온도 (Tg)가 20℃ 이하이고 비닐포스폰산 및 단량체 CH = C(R)-COOR(여기서, R= H 또는 메틸이며, R= 선형 또는 분지형 C내지 C비치환 알킬 기 (tert-부틸 기, 또는 메톡시에틸 기는 제외됨)임)로부터 유도되는 제2 블록을 포함하는 블록 중합체에 관한 것이다. 또한 본 발명은 그러한 블록 중합체를 포함하는 미용 조성물, 및 또한 몇몇 1차 아민 기 및/또는 2차 아민 기를 갖는 폴리아민 화합물, 아미노 알콕시실란, 2가 또는 3가 금속 이온의 염, 점토 및 금속 산화물로부터 선택되는 추가 화합물과 조합된 상기 블록 중합체를 사용한 케라틴 물질의 케어 또는 메이크업 방법에 관한 것이다. 본 방법은 양호한 내수성, 내유성 및 내피지성을 갖는 필름 형성 침착물의 수득을 가능하게 한다. 상기 필름은 또한 끈적이지 않으며 내이전성을 갖는다.
The invention relates to a block polymer comprising: a first block with a glass transition temperature (Tg) of greater than or equal to 40° C., obtained from a monomer CH2═C(R1)-COOR2, in which R1═H or methyl, R2═C4 to C12 cycloalkyl group; and a second block with a glass transition temperature (Tg) of less than or equal to 20° C. derived from a vinylphosphonic acid and from a monomer CH2═C(R1)-COOR3, in which R1═H or methyl, R3=linear or branched C1 to C6 unsubstituted alkyl group, with the exception of a tert-butyl group or a methoxyethyl group. The invention also relates to a cosmetic composition comprising such a block polymer, and also to a process for caring for or making up keratin materials using said block polymer combined with an additional compound chosen from polyamine compounds bearing several primary amine groups and/or secondary amine groups, amino alkoxysilanes, salts of divalent or trivalent metal ions, clays and metal oxides. The process makes it possible to obtain a film-forming deposit that has good resistance to water, to oil and to sebum. The film is also non-tacky and transfer-resistant. |
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Bibliography: | Application Number: KR20187020642 |