액 처리 장치

• Main Authors: TAKAKI YASUHIRO, UMENO SHINICHI, IRIYAMA TETSUROU, SATOH TAKAMI
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 22.08.2018
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

실시형태에 따른 액 처리 장치는, 처리부, 제1 공급로, 제1 기기, 제2 공급로, 제2 기기, 케이스 및 외부 케이스를 구비한다. 처리부는, 처리액을 이용하여 기판을 처리한다. 제1 공급로는, 처리부에 대해 제1 처리액을 공급한다. 제1 기기는 제1 공급로에의 제1 처리액의 공급에 이용된다. 제2 공급로는, 처리부에 대해, 제1 처리액보다 고온의 제2 처리액을 공급한다. 제2 기기는 제2 공급로에의 제2 처리액의 공급에 이용된다. 케이스는 처리부를 수용한다. 외부 케이스는, 케이스에 인접하고, 제1 기기와 제2 기기를 수용한다. 또한, 외부 케이스는, 제1 기기와, 제2 기기 사이에 구획벽을 구비한다. A liquid processing apparatus includes a processing unit, a first supply route, a first device, a second supply route, a second device, a housing, and an external housing. The processing unit processes a substrate by using processing liquid including first and second processing liquids. The first supply route is for supplying the first processing liquid to the processing unit. The first device is for supplying the first processing liquid to the first supply route. The second supply route is for supplying the second processing liquid to the processing unit. The second processing liquid has higher temperature than the first processing liquid. The second device is for supplying the second processing liquid to the second supply route. The housing accommodates the processing unit. The external housing accommodates the first and second devices, and is adjacent to the housing. The external housing includes a partition wall between the first and second devices.