간섭계의 광학 성능을 최적화하기 위한 방법 및 장치

• Main Author: DECK LESLIE L
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 09.08.2018
• Subjects: INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES; MEASURING; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS; MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS; PHYSICS; TESTING

방법은, 장치를 사용하여, 공지된 토포그래피를 가지는 하나 이상의 표면 피쳐를 포함하는 아티팩트의 장치의 제 1 표면에서의 제 1 표면 필드를 측정하는 단계를 포함한다. 방법은, 제 1 표면에서의 제 1 초점 메트릭을 하나 이상의 표면 피쳐를 보유하는 제 1 표면 프로파일의 적어도 부분에 기초하여 결정하는 단계를 포함한다. 방법은, 제 1 표면 필드를 장치의 제 2 표면에서의 제 2 표면 필드로 디지털적으로 변환하는 단계, 제 2 표면 필드로부터 제 2 표면 프로파일을 유도하고, 제 2 표면 프로파일에 대한 제 2 초점 메트릭을 계산하는 단계, 및 두 개 이상의 초점 메트릭 값에 기초하여, 기구 전달 함수를 평가하기 위한 최적면을 결정하는 단계를 포함한다. 방법은, 최적면에서 획득된 표면 프로파일의 적어도 부분에 기초하여, 장치의 기구 전달 함수를 결정하는 단계를 포함한다. Method include using an apparatus to measure a first surface field, at a first surface of the apparatus, of an artifact having one or more surface features with known topography. The method includes determining a first focus metric at the first surface based on at least a portion of a first surface profile containing the one or more surface features. Methods include digitally transforming, the first surface field into a second surface field at a second surface of the apparatus, deriving, a second surface profile from the second surface field and computing a second focus metric for the second surface profile, and determining, based on two or more focus metric values, an optimum surface for evaluating the instrument transfer function. Method include determining the instrument transfer function of the apparatus based on at least a portion of the surface profile derived from the surface field of the optimum surface.