MICROWAVE PLASMA SOURCE MICROWAVE PLASMA PROCESSING APPARATUS AND PLASMA PROCESSING METHOD

• Main Author: IWAO TOSHIHIKO
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 09.08.2018
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRICITY

The present invention provides a technique capable of performing high precision plasma density distribution control if a slot antenna is used to generate microwave plasma. A microwave plasma source (20) comprises: a microwave oscillator (40) oscillating a microwave, wherein an oscillation frequency of the microwave is variable; waveguides (39, 38, 37) through which the microwave, generated by the microwave generator (40), propagates; an antenna unit (30) including a slot antenna (31) to radiate the microwave propagating through the waveguides into a chamber (1) and a microwave transmitting plate (28) made of a dielectric substance transmitting the microwave radiated from the slot antenna therethrough; temperature detectors (51, 52) to detect temperatures at a plurality of positions outside the chamber of the antenna unit (30) when plasma is generated in the chamber (1); and a frequency controller (50) to control the oscillation frequency of the microwave oscillator (40) to allow a plasma density distribution to become a desired distribution based on a detection signal of the temperature detectors. 본 발명은, 슬롯 안테나를 사용해서 마이크로파 플라스마를 생성할 경우에, 고정밀도의 플라스마 밀도 분포 제어를 행할 수 있는 기술을 제공한다. 마이크로파 플라스마원(20)은, 마이크로파를 발진함과 함께, 마이크로파의 발진 주파수가 가변인 마이크로파 발진기(40)와, 마이크로파 발진기(40)에서 발진된 마이크로파를 전파하는 도파로(39, 38, 37)와, 도파로를 전파한 마이크로파를 챔버(1) 내에 방사하는 슬롯 안테나(31), 및 슬롯 안테나로부터 방사된 마이크로파를 투과하는 유전체로 이루어지는 마이크로파 투과판(28)을 갖는 안테나부(30)와, 챔버(1) 내에 플라스마가 생성되어 있을 때, 안테나부(30)의 챔버 밖에서의 복수의 위치의 온도를 검출하는 온도 검출기(51, 52)와, 온도 검출기의 검출 신호에 기초하여, 플라스마 밀도 분포가 원하는 분포로 되도록, 마이크로파 발진기(40)의 발진 주파수를 제어하는 주파수 제어기(50)를 갖는다.