DEFECT INSPECTION METHOD SELECTION METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF PHOTOMASK BLANK

• Main Authors: YOKOHATA ATSUSHI, FUKUDA HIROSHI, IWAI DAISUKE, TERASAWA TSUNEO, KISHITA TAKAHIRO
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 03.08.2018
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

Inspection light is irradiated onto the surface of a photomask blank in which at least one thin film is formed on a transparent substrate, the reflected light from an area irradiated with the inspection light is collected through an inspection optical system to form an enlarged image of the area, and based on the characteristic quantity of the light intensity distribution extracted from an enlarged image and the criterion of the defect corresponding to a structure of an optical film of the photomask blank, the shape of irregularities of the defects present on a surface portion of the photomask blank is determined. By using an optical defect inspection method, the irregularities of defects are distinguished with high reliability, and the defect of the photomask blank can be inspected. Further, by applying the defect inspection method of the present invention, the photomask blank can be provided at a lower cost and at a higher yield. 투명 기판 상에 적어도 1층의 박막을 형성한 포토마스크 블랭크의 표면에 검사광을 조사하고, 검사광이 조사된 영역으로부터의 반사광을 검사 광학계를 거쳐서 수집하여 상기 영역의 확대 상을 형성하고, 확대 상으로부터 추출한 광 강도 분포의 특징량과 포토마스크 블랭크의 광학막의 구조에 대응하는 결함의 판정 기준에 근거하여, 포토마스크 블랭크의 표면부에 존재하는 결함의 요철 형상을 판정한다. 광학적인 결함 검사 방법을 이용하여, 결함의 요철 형상을 높은 신뢰성으로 구별하고, 포토마스크 블랭크의 결함을 검사할 수 있다. 또한, 본 발명의 결함 검사 방법을 적용하는 것에 의해, 핀 홀 결함을 포함하지 않는 포토마스크 블랭크를, 보다 저비용이고, 또한 높은 양품률로 제공할 수 있다.