CHARGED PARTICLE BEAM APPARATUS

• Main Authors: SUZUKI MASATO, TOMIMATSU SATOSHI, SATO MAKOTO
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 27.07.2018
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

Provided is a charged particle beam apparatus which extracts a sample piece formed by processing a sample with an ion beam and automatically repeats an operation of transferring the extracted sample piece to a sample piece holder. The charged particle beam apparatus, as a charged particle beam apparatus for automatically manufacturing a sample piece from a sample, includes: a charged particle beam emitting optical system emitting a charged particle beam; a sample stage moving the sample in a state that the sample is put on the sample stage; a sample piece transfer means maintaining and transferring the sample piece separated and extracted from the sample; a holder fixing stand maintaining the sample piece holder to which the sample piece is transferred; and a computer performing a control operation of removing the sample piece maintained by the sample piece transfer means when an abnormality occurs after maintaining the sample piece by the sample piece transfer means. 이온 빔에 의한 시료의 가공에 의해서 형성된 시료편을 적출하여 시료편 홀더에 이설시키는 동작을 자동으로 반복한다. 하전 입자 빔 장치는, 시료로부터 시료편을 자동적으로 제작하는 하전 입자 빔 장치로서, 하전 입자 빔을 조사하는 하전 입자 빔 조사 광학계와, 시료를 올려놓고 이동하는 시료 스테이지와, 시료로부터 분리 및 적출하는 시료편을 유지하여 반송하는 시료편 이설 수단과, 시료편이 이설되는 시료편 홀더를 유지하는 홀더 고정대와, 시료편 이설 수단에 의해서 시료편을 유지한 후에 이상이 발생한 경우에, 시료편 이설 수단에 의해서 유지되고 있는 시료편을 소멸시키는 제어를 행하는 컴퓨터를 구비한다.