리소그래피 장치를 위한 펠리클 제조 방법, 리소그래피 장치를 위한 펠리클 장치, 리소그래피 장치, 디바이스 제조 방법, 펠리클 처리 장치, 및 펠리클 처리 방법

• Main Authors: PETER MARIA, NASALEVICH MAXIM ALEKSANDROVICH, ABEGG ERIK ACHILLES, GIESBERS ADRIANUS JOHANNES MARIA, VLES DAVID FERDINAND, VOORTHUIJZEN WILLEM PIETER, VAN DEN EINDEN WILHELMUS THEODORUS ANTHONIUS JOHANNES, VAN ZWOL PIETER JAN, KLOOTWIJK JOHAN HENDRIK, VAN DER ZANDE WILLEM JOAN, VERMEULEN JOHANNES PETRUS MARTINUS BERNARDUS
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 29.06.2018
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

리소그래피 장치를 위한 펠리클을 제조하는 방법들이 개시된다. 일 배치에서, 상기 방법은 기판의 평탄한 표면 상에 적어도 하나의 그래핀 층을 증착하는 단계를 포함한다. 상기 기판은 제1기판부 및 제2기판부를 포함한다. 상기 방법은 상기 적어도 하나의 그래핀 층으로부터 프리스탠딩 막을 형성하기 위해 상기 제1기판부를 제거하는 단계를 더 포함한다. 상기 프리스탠딩 막은 상기 제2기판부에 의해 지지된다. Methods of manufacturing a pellicle for a lithographic apparatus including a method involving depositing at least one graphene layer on a planar surface of a substrate. The substrate has a first substrate portion and a second substrate portion. The method further includes removing the first substrate portion to form a freestanding membrane from the at least one graphene layer. The freestanding membrane is supported by the second substrate portion.