inspection apparatus and method for manufacturing semiconductor device using the same

• Main Authors: HA, JEONG SU, KIM, KWANG SOO, PARK SEAN, PARK, SUNG WON, CHA, BYEONG KYU
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 01.06.2018
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES; MEASURING; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES; TESTING

According to the present invention, disclosed are an inspection apparatus which can increase the image processing speed, and a method for manufacturing a semiconductor element using the same. The apparatus comprises: a stage receiving a substrate; an objective lens arranged on the stage, and projecting the substrate; an ocular lens arranged on the objective lens, and forming an image of the projected substrate in an image plane; and a plurality of sensors arranged on the ocular lens, and arranged in the image plane of the ocular lens. 본 발명은 검사 장치 및 그를 이용한 반도체 소자의 제조 방법을 개시한다. 그의 장치는, 기판을 수납하는 스테이지와, 상기 스테이지 상에 배치되고, 상기 기판을 투영하는 오브젝티브 렌즈와, 상기 오브젝티브 렌즈 상에 배치되고, 상기 투영된 기판의 이미지를 이미지 평면 내에 결상하는 오큘러 렌즈와, 상기 오큘러 렌즈 상에 배치되고, 상기 오큘러 렌즈의 상기 이미지 평면 내에 배치된 복수개의 센서들을 포함한다.