베이퍼 챔버

• Main Authors: KAWAHARA YOUJI, PHAN THANHLONG, MOCHIZUKI MASATAKA, AHAMED MOHAMMAD SHAHED, SAITO YUJI, YOKOYAMA YUICHI, MASHIKO KOICHI
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 10.05.2018
• Subjects: BLASTING; HEAT EXCHANGE IN GENERAL; HEAT-EXCHANGE APPARATUS, NOT PROVIDED FOR IN ANOTHER SUBCLASS,IN WHICH THE HEAT-EXCHANGE MEDIA DO NOT COME INTO DIRECT CONTACT; HEATING; LIGHTING; MECHANICAL ENGINEERING; WEAPONS

베이퍼 챔버는, 상판과, 하판과, 상기 상판과 상기 하판과의 사이에 배치된 복수의 측벽과, 상기 상판, 상기 하판, 및 복수의 상기 측벽을 따라서 밀폐된 공간 내에 배치되고, 상기 상판 및 상기 하판에 접하는 윅 보디와, 상기 공간 내에 배치되고, 상기 상판 및 상기 하판에 접하는 필러를 구비하고, 상기 윅 보디는, 증발부에 위치하는 각각의 제1 종단으로부터 상기 측벽을 향해 연장되고, 직선부를 가지는 복수의 제1 윅부와, 복수의 상기 제1 윅부의 제2 종단끼리를 접속하는 제2 윅부를 가지고, 상기 필러는, 복수의 상기 제1 윅부 중, 인접하는 2개의 상기 제1 윅부에서의 상기 직선부끼리의 사이에 간극을 두고 배치되어 있다. A vapor chamber includes an upper plate, a lower plate, side walls, a wick body, and a pillar that comes into contact with the upper plate and the lower plate. The wick body includes a plurality of first wick portions each of which extends to the side walls from a first terminal thereof positioned in a vaporization portion and includes a linear portion, and a second wick portion that connects second terminals of the first wick portions to each other, and the pillar is disposed between the linear portions of two adjacent first wick portions among the first wick portions such that the pillar is positioned away from the linear portions.