LPP EUV 광 소스 내의 레이저 발화를 제어하는 시스템 및 방법

• Main Authors: RIGGS DANIEL JASON, RAFAC ROBERT JAY
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 20.04.2018
• Subjects: ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; X-RAY TECHNIQUE

레이저 생성 플라즈마(LPP) 극자외(EUV) 생성 시스템 내의 소스 레이저의 타이밍을 개선시키기 위한 방법 및 시스템이 개시된다. 플라즈마 챔버 내에서의 힘 때문에, 액적의 속도는 조사 부위에 접근하면서 감소될 수 있다. 액적이 느려지기 때문에, 소스 레이저는 느려진 액적에 비하여 빠르게 발화하고, 결과적으로 얻어지는 액적의 앞선 부분만이 조사되게 된다. 이러한 액적으로부터 생성된 EUV 에너지의 결과적으로 얻어지는 양은 액적의 느려진 속도에 비례한다. 이것을 보상하기 위하여, 소스 레이저의 발화가 생성된 EUV 에너지에 기초하여 다음 액적에 대해서 지연된다. 소스 레이저의 발화가 다음 액적에 대해서 지연되기 때문에, 다음 액적은 더 완전하게 조사된 위치에 있을 가능성이 더 높아지고, 결과적으로 다음 액적으로부터 더 많은 EUV 에너지가 생기게 된다. Methods and systems for improved timing of a source laser in a laser produced plasma (LPP) extreme ultraviolet (EUV) generation system are disclosed. Due to forces within the plasma chamber, a velocity of a droplet can slow as it approaches the irradiation site. Because the droplet is slowed, a source laser fires prematurely relative to the slowed droplet, resulting in only a leading portion of the droplet being irradiated. The resulting amount of EUV energy generated from the droplet is proportional to the slowed velocity of the droplet. To compensate, the firing of the source laser is delayed for a next droplet based on the generated EUV energy. Because the firing of the source laser is delayed for the next droplet, the next droplet is more likely to be in position to be more completely irradiated, resulting in more EUV energy being generated from the next droplet.