플라즈마 발생기 및 이온비 조정 방법
본 발명은, 공정 가스의 이온화에 적합한 압전 변환기(2), 이온 분리 전극(7) 및 이러한 이온 분리 전극(7)에 전위를 인가하기에 적합한 구동 회로(8)를 구비하는, 플라즈마 발생기(1)에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 플라즈마 발생기(1)에 의해 생성된 플라즈마 내에서 양이온과 음이온의 비율을 조정하는 방법과도 관련이 있다. A plasma generator and a method for setting an ion ratio. In an embodiment a plasma generator includes a piezoele...
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Format | Patent |
Language | Korean |
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20.04.2018
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Summary: | 본 발명은, 공정 가스의 이온화에 적합한 압전 변환기(2), 이온 분리 전극(7) 및 이러한 이온 분리 전극(7)에 전위를 인가하기에 적합한 구동 회로(8)를 구비하는, 플라즈마 발생기(1)에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 플라즈마 발생기(1)에 의해 생성된 플라즈마 내에서 양이온과 음이온의 비율을 조정하는 방법과도 관련이 있다.
A plasma generator and a method for setting an ion ratio. In an embodiment a plasma generator includes a piezoelectric transformer suitable for ionizing a process gas, an ion separation electrode and a drive circuit suitable for applying a potential to the ion separation electrode. |
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Bibliography: | Application Number: KR20187006819 |