레이저 에너지 변조를 통해 액적-플라스마 상호작용을 안정화하는 시스템 및 방법

• Main Authors: RIGGS DANIEL JASON, RAFAC ROBERT JAY
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 16.04.2018
• Subjects: COLORIMETRY; ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT,POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRA-RED,VISIBLE OR ULTRA-VIOLET LIGHT; MEASURING; PHYSICS; RADIATION PYROMETRY; TESTING; X-RAY TECHNIQUE

레이저 생성 플라즈마(LPP) 극자외(EUV) 시스템 내에서, 액적은 레이저 펄스에 의해 조사되어 챔버 내에 플라즈마를 생성한다. 그러면 플라즈마가 안정 상태에서 해제되게 하고 후속 액적들이 플라즈마에 접근할 때 그들의 진행 궤적 및 속도가 변경되게 하는 힘이 생긴다. 이러한 비안정화는 생성된 EUV 에너지의 양에 존재하는 발진으로부터 검출될 수 있다. 플라즈마와 액적의 이동을 안정화하여 발진을 감소시키기 위하여, 후속 레이저 펄스의 에너지를 챔버 내에 생성된 EUV 에너지에 기초하여 변경하기 위해 비례-적분(PI) 제어기 알고리즘이 사용된다. 후속 레이저 펄스의 에너지를 변경하면, 플라즈마가 안정화되고, 그러면 액적 진행에 대한 영향이 감소되고 생성되는 EUV 에너지의 양이 안정화되기 때문에, 플라즈마 챔버가 더 오랜 동안 동작할 수 있게 되고 레이저 소스에 의해 유지되는 예비 파워의 양이 감소된다. In a laser produced plasma (LPP) extreme ultraviolet (EUV) system, a droplet is irradiated by a laser pulse to produce a plasma in a chamber. This generates forces that cause the plasma to destabilize and subsequent droplets to have their flight trajectory and speed altered as they approach the plasma. This destabilization is detectable from oscillations in the amount of EUV energy generated. To reduce the oscillations by stabilizing the plasma and travel of the droplets, a proportional-integral (PI) controller algorithm is used to modify an energy of subsequent laser pulses based on the EUV energy generated in the chamber. By modifying the energy of subsequent laser pulses, the plasma stabilizes, which reduces effects on droplet flight and stabilizes the amount of EUV energy generated, allowing the plasma chamber to operate for longer intervals and to lower the amount of reserve power maintained by a laser source.