APPARATUS FOR TRANSFERRING A SUBSTRATE IN A LITHOGRAPHY SYSTEM

• Main Authors: VAN KERVINCK MARCEL NICOLAAS JACOBUS, SLOT ERWIN, KUIPER VINCENT SYLVESTER, DE JONG HENDRIK JAN, DE BOER GUIDO
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 27.03.2018
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

리소그라피 시스템(300) 내에서 기판들(405)을 전달하기 위한 장치(401)로서, 상기 리소그라피 시스템은 클램핑된 기판을 형성하기 위해 기판 지지 구조 상에 기판을 클램핑하기 위한 기판 준비 유닛(360a-b) 및 언클램핑된 기판들을 수용하기 위한 기판 공급 시스템(315)을 갖는 인터페이스를 포함한다. 상기 장치는 언클램핑된 기판을 전달하기 위한 핑거들(684a,b)의 제 1 세트 및 기판 지지 구조(403)를 전달하기 위한 핑거들(685a,b)의 제 2 세트가 제공된 바디(680)를 포함하고, 상기 핑거들의 제 1 세트는 핑거들의 제 2 세트 아래에 위치되고 핑거들의 제 1 세트의 핑거들은 핑거들의 제 2 세트의 핑거들과 상이한 형상을 갖는다. An apparatus for transferring a target, such as a substrate or a substrate support structure onto which a substrate has been clamped, from a substrate transfer system to a vacuum chamber of a lithography system. The apparatus comprises a load lock chamber for transferring the target into and out of the vacuum chamber. The load lock chamber comprises a first wall with a first passage providing access between a robot space and the interior of the load lock chamber, a second wall with a second passage providing access between the interior of the load lock chamber and the vacuum chamber, and plurality of handling robots for transferring the targets comprising: a first handling robot movable within the robot space to access the substrate transfer system and the first passage; and a second handling robot movable within the load lock chamber to access the first passage and the second passage.