검사 및 메트롤로지를 위한 장치 및 방법

타겟으로부터의 갭에서 광학 구성요소를 이용하여 측정되는 타겟에 대한 방사선 세기 분포를 수반하는 방법이 개시되며, 상기 방법은: 측정된 방사선 세기 분포 및 타겟을 설명하는 수학적 모델을 이용하여 관심 파라미터의 값을 결정하는 단계를 포함하고, 상기 모델은 광학 구성요소의 표면 또는 그 일부분의 거칠기에 대한 유효 매질 근사를 포함한다. A method involving a radiation intensity distribution for a target measured using an optical component at a ga...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Main Authors VAN DER POST SIETSE THIJMEN, ZIJP FERRY, ROOBOL SANDER BAS
Format Patent
LanguageKorean
Published 21.03.2018
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
CINEMATOGRAPHY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
Online AccessGet full text

Cover

More Information
Summary:타겟으로부터의 갭에서 광학 구성요소를 이용하여 측정되는 타겟에 대한 방사선 세기 분포를 수반하는 방법이 개시되며, 상기 방법은: 측정된 방사선 세기 분포 및 타겟을 설명하는 수학적 모델을 이용하여 관심 파라미터의 값을 결정하는 단계를 포함하고, 상기 모델은 광학 구성요소의 표면 또는 그 일부분의 거칠기에 대한 유효 매질 근사를 포함한다. A method involving a radiation intensity distribution for a target measured using an optical component at a gap from the target, the method including: determining a value of a parameter of interest using the measured radiation intensity distribution and a mathematical model describing the target, the model including an effective medium approximation for roughness of a surface of the optical component or a part thereof.
Bibliography:Application Number: KR20187004719