포토리소그래피에 사용되는 포토레지스트 세정 조성물 및 이로 기판을 처리하는 방법

• Main Authors: PARRIS GENE EVERAD, CHEN HSIU MEI, MENG LING JEN, LEE YI CHIA, LO RYBACK LI CHANG, CHANG RANDY LI KAI, LIU WEN DAR, CHEN TIANNIU, MATZ LAURA M
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 14.03.2018
• Subjects: ANIMAL AND VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES AND WAXES; CANDLES; CHEMISTRY; DETERGENT COMPOSITIONS; DETERGENTS; FATTY ACIDS THEREFROM; METALLURGY; RECOVERY OF GLYCEROL; RESIN SOAPS; SOAP OR SOAP-MAKING; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS

(a) 4차 암모늄 하이드록사이드, (b) 수용성 유기 용매의 혼합물, (c) 적어도 하나의 부식 억제제, 및 (d) 물을 함유하는, 3-150 ㎛의 막 두께를 갖는 포토레지스트 패턴을 스트립핑하기 위한 포토레지스트 세정 조성물, 및 이로 기판을 처리하는 방법이 개시된다. It is disclosed a photoresist cleaning composition for stripping a photoresist pattern having a film thickness of 3-150 μm, which contains (a) quaternary ammonium hydroxide (b) a mixture of water-soluble organic solvents (c) at least one corrosion inhibitor and (d) water, and a method for treating a substrate therewith.