결정 생성 시스템들 및 방법들

• Main Authors: KERAT UWE, DASSEL MARK W
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 09.03.2018
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SEMICONDUCTOR DEVICES; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

기계적으로 유동화되는 시스템들 및 공정들은 금속 및 산소와 같은 오염 물질들의 매우 낮은 수준을 갖는 실리콘 코팅된 입자들의 능률적인, 비용 효율적인 생성을 허용한다. 이 실리콘 코팅된 입자들은, 실리콘 옥사이드들의 형성을 최소화하고 코팅된 입자들 상의 오염 물질들의 증착을 최소화하기 위하여, 낮은 산소 수준 또는 매우 낮은 산소 수준 및 낮은 오염 물질 수준 또는 매우 낮은 오염 물질 수준으로 유지되는 환경 하에서, 생성되고, 운반되고, 결정으로 형성된다. 그러한 고 순도 코팅된 실리콘 입자들은 분류를 요구하지 않을 것이고 전체적으로 또는 부분적으로 결정 생성 방법에 사용될 것이다. 결정 생성 방법 및 생성된 실리콜 보울들의 결과적인 고품질은 코팅된 입자들 상의 오염 물질들 및 실리콘 옥사이드 층의 제거 또는 감소에 의해 향상된다. Mechanically fluidized systems and processes allow for efficient, cost-effective production of silicon coated particles having very low levels of contaminants such as metals and oxygen. These silicon coated particles are produced, conveyed, and formed into crystals in an environment maintained at a low oxygen level or a very low oxygen level and a low contaminant level or very low contaminant level to minimize the formation of silicon oxides and minimize the deposition of contaminants on the coated particles. Such high purity coated silicon particles may not require classification and may be used in whole or in part in the crystal production method. The crystal production method and the resultant high quality of the silicon boules produced are improved by the reduction or elimination of the silicon oxide layer and contaminants on the coated particles.