개선된 스퍼터링 코일 제품 및 제조 방법

제 1 표면을 포함하는 물리 기상 증착 장치와 함께 사용하기 위한 고 표면적 코일이 제공된다. 제 1 표면의 적어도 일부분은 표면 거칠기가 약 15 ㎛ 내지 약 150 ㎛인 매크로텍스쳐를 갖는다. 제 1 표면의 적어도 일부분은 표면 거칠기가 약 2㎛ 내지 15㎛인 마이크로텍스쳐를 갖는다. A high surface area coil for use with a physical vapor deposition apparatus comprising a first surface. At least a portion of the first su...

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Main Authors RUZICKA JACOB C, BLONDELL MICHAEL D, MEYER WAYNE D, HUBERT KEVIN T, JARDEE WILLIAM P, DUNLOP JOHN A, DAUB ADAM P, WRAGG ANDREW N.A, LARA EDWARD P, BUCKHART SCOTT A, JUNTTILA TRAVIS C, JOHN PHILLIP F
Format Patent
LanguageKorean
Published 07.03.2018
Subjects
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
SEMICONDUCTOR DEVICES
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Summary:제 1 표면을 포함하는 물리 기상 증착 장치와 함께 사용하기 위한 고 표면적 코일이 제공된다. 제 1 표면의 적어도 일부분은 표면 거칠기가 약 15 ㎛ 내지 약 150 ㎛인 매크로텍스쳐를 갖는다. 제 1 표면의 적어도 일부분은 표면 거칠기가 약 2㎛ 내지 15㎛인 마이크로텍스쳐를 갖는다. A high surface area coil for use with a physical vapor deposition apparatus comprising a first surface. At least a portion of the first surface has a macrotexture with a surface roughness between about 15 μm and about 150 μm. At least a portion of the first surface has a microtexture with a surface roughness between about 2 μm and 15 μm.
Bibliography:Application Number: KR20187004740