다층 구조물의 층들 사이의 오버레이를 측정하기 위한 기법

• Main Authors: GOLDMAN RAN, ZAUER ITAY, WEINBERG YAKOV, LEVI SHIMON, SCHWARZBAND ISHAI, NOVAK OLGA, RATHORE DHANANJAY SINGH, KRIS ROMAN, ADAN OFER
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 28.02.2018
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

다층 구조물의 층들 사이의 오버레이를 결정하기 위한 방법은 상기 다층 구조물을 나타내는 주어진 이미지를 획득하는 단계, 상기 다층 구조물의 층들에 대한 예상되는 이미지들을 획득하는 단계, 상기 층들의 예상되는 이미지들의 조합으로서 상기 다층 구조물의 조합된 예상되는 이미지를 제공하는 단계, 상기 조합된 예상되는 이미지에 대해 상기 주어진 이미지의 레지스트레이션을 수행하는 단계, 상기 주어진 이미지의 세그먼테이션을 제공함으로써, 세그먼트화된 이미지, 및 상기 다층 구조물의 층들의 맵들을 생성하는 단계를 포함한다. 이 방법은 상기 다층 구조물의 임의의 2개의 선택된 층 사이의 오버레이를, 상기 2개의 선택된 층의 예상되는 이미지들과 함께 상기 2개의 선택된 층의 맵들을 처리함으로써 결정하는 단계를 추가로 포함할 수 있다. A method for determining overlay between layers of a multilayer structure may include obtaining a given image representing the multilayer structure, obtaining expected images for layers of the multilayer structure, providing a combined expected image of the multilayer structure as a combination of the expected images of said layers, performing registration of the given image against the combined expected image, and providing segmentation of the given image, thereby producing a segmented image, and maps of the layers of said multilayered structure. The method may further include determining overlay between any two selected layers of the multilayer structure by processing the maps of the two selected layers together with the expected images of said two selected layers.