플라즈마 임피던스 정합 유닛, 플라즈마 부하에 RF 전력을 공급하기 위한 시스템, 및 플라즈마 부하에 RF 전력을 공급하는 방법

• Main Authors: BUGYI RAFAL, GLAZEK WOJCIECH
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 08.01.2018
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; BASIC ELECTRONIC CIRCUITRY; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRICITY; IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS

플라즈마 전력 공급 시스템(10, 100)용 플라즈마 임피던스 정합 유닛(13)은 a. 정합 유닛(13)을 전원(11)에 커플링하기 위한 제1 전력 커넥터(40), b. 정합 유닛(13)을 플라즈마 부하(20)에 커플링하기 위한 제2 전력 커넥터(41), c. 임피던스 정합 유닛(13)을 데이터 링크(48)를 통해 플라즈마 전력 공급 시스템(10, 100)의 다른 플라즈마 임피던스 정합 유닛(14)에 직접적으로 커플링하기 위한 데이터 링크 인터페이스(45), d. 제1 전력 커넥터(40)로부터의 임피던스를 제2 전력 커넥터(41)에서의 임피던스에 정합시키기 위해 정합 유닛(13)을 제어하도록 구성되는 컨트롤러(42)를 포함하며, e. 컨트롤러(42)는 플라즈마 전력 공급 시스템(10, 100)의 적어도 하나의 다른 임피던스 정합 유닛(14) 및/또는 적어도 하나의 RF 전원(11,12)에 대한 마스터로서 동작하도록 구성되며, 컨트롤러(42)는 데이터 링크 인터페이스(45)를 통해 플라즈마 전력 공급 시스템(10, 100)의 다른 임피던스 정합 유닛(들)(14) 및/또는 RF 전원(들)(11, 12)과 통신한다. A plasma impedance matching unit (13) for a plasma power supply system (10, 100) comprises a. a first power connector (40) for coupling the matching unit (13) to a power source (11), b. a second power connector (41) for coupling the matching unit (13) to a plasma load (20), c. a data link interface (45) for directly coupling the impedance matching unit (13) to another plasma impedance matching unit (14) of the plasma power supply system (10, 100) via a data link (48), d. a controller (42) configured to control the matching unit (13) in order to match the impedance from the first power connector (40) to the impedance at the second power connector (41), wherein e. the controller (42) is configured to operate as a master for at least one other impedance matching unit (14) and/or at least one RF power source (11, 12) of the plasma power supply system (10, 100), wherein the controller (42) communicates via the data link interface (45) with the other impedance matching unit(s) (14) and/or RF power source(s) (11, 12) of the plasma power supply system (10, 100).