리소그래피 장치

기판 테이블 상에 유지된 기판에 노광 영역을 형성하기 위해 패터닝된 방사선 빔을 투영하도록 구성되는 투영 시스템을 포함한 리소그래피 장치가 개시되고, 리소그래피 장치는 기판을 냉각하는 냉각 장치(40)를 더 포함하며, 냉각 장치는 노광 영역에 인접하고 기판 테이블 위에 위치되는 냉각 요소(42, 44)를 포함하며, 냉각 요소는 기판으로부터 열을 제거하도록 구성된다. A lithographic apparatus comprising a projection system configured to project a patterned radi...

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Main Authors LEVASIER LEON MARTIN, VAN DER SANDEN JACOBUS CORNELIS GERARDUS, OVERKAMP JIM VINCENT, KOEVOETS ADRIANUS HENDRIK, DERKS SANDER CATHARINA REINIER, JANSSEN FRANCISCUS JOHANNES JOSEPH, DONDERS SJOERD NICOLAAS LAMBERTUS, ARLEMARK ERIK JOHAN, LAFARRE RAYMOND WILHELMUS LOUIS, ENDENDIJK WILFRED EDWARD, TEN KATE NICOLAAS
Format Patent
LanguageKorean
Published 26.12.2017
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
CINEMATOGRAPHY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
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Summary:기판 테이블 상에 유지된 기판에 노광 영역을 형성하기 위해 패터닝된 방사선 빔을 투영하도록 구성되는 투영 시스템을 포함한 리소그래피 장치가 개시되고, 리소그래피 장치는 기판을 냉각하는 냉각 장치(40)를 더 포함하며, 냉각 장치는 노광 영역에 인접하고 기판 테이블 위에 위치되는 냉각 요소(42, 44)를 포함하며, 냉각 요소는 기판으로부터 열을 제거하도록 구성된다. A lithographic apparatus comprising a projection system configured to project a patterned radiation beam to form an exposure area on a substrate held on a substrate table, the lithographic apparatus further comprising a cooling apparatus for cooling the substrate, wherein the cooling apparatus comprises a cooling element located above the substrate table and adjacent to the exposure area, the cooling element being configured to remove heat from the substrate.
Bibliography:Application Number: KR20177033567