변화하는 굴절률을 갖는 입자

제1 영역, 및 제1 영역을 둘러싸는 제2 영역을 갖는 입자가 기재되며, 여기서 제2 영역은 제2 영역의 두께를 가로질러 연장되는 공중합체를 포함한다. 제2 영역의 부피는 입자의 부피의 75% 이상이다. 입자는 제2 영역의 두께를 가로질러 각각 변화하는 조성 및 굴절률을 갖는다. Particles having a first region and a second region surrounding the first region where the second region includes a copolymer extending across...

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Bibliographic Details
Main Authors SHERMAN AUDREY A, SITTER BRETT J, LUNDQUIST JENNA M, EVERAERTS ALBERT I, OUDERKIRK ANDREW J, CRANDALL MICHAEL D, SONG ZHIPENG, ERDOGAN HAUG BELMA, BROTT ROBERT L
Format Patent
LanguageKorean
Published 26.12.2017
Subjects
AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F,C08G
CHEMISTRY
COMPOSITIONS BASED THEREON
GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING
METALLURGY
OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
OPTICS
ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS
PHYSICS
THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP
WORKING-UP
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Summary:제1 영역, 및 제1 영역을 둘러싸는 제2 영역을 갖는 입자가 기재되며, 여기서 제2 영역은 제2 영역의 두께를 가로질러 연장되는 공중합체를 포함한다. 제2 영역의 부피는 입자의 부피의 75% 이상이다. 입자는 제2 영역의 두께를 가로질러 각각 변화하는 조성 및 굴절률을 갖는다. Particles having a first region and a second region surrounding the first region where the second region includes a copolymer extending across a thickness of the second region are described. The volume of the second region is at least 75 percent of the volume of the particle. The particles have a composition and a refractive index that each vary across the thickness of the second region.
Bibliography:Application Number: KR20177032939