특히 마이크로리소그래픽 투영 노광 장치용 미러

본 발명은 특히 마이크로리소그래픽 투영 노광 장치용 미러에 관한 것이다. 본 발명에 따른 미러는 미러 기판(101)과, 광학적 유효면(100a) 상에 입사되는 전자기 방사선을 반사하기 위한 반사층 시스템(102)과, 광학적 유효면(100a)에 대면하는 반사층 시스템(102)의 측 상에 배열되고 제1 재료로부터 제조되는 캡핑층(104)을 포함하고, 개별적으로 또는 군집으로, 제2 재료의 입자(105)가 이 캡핑층(104) 상에 도포되고, 제2 재료는 상기 제1 재료와는 상이하다. A mirror, in particular for a...

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Main Author GONCHAR ANASTASIA
Format Patent
LanguageKorean
Published 26.12.2017
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
CINEMATOGRAPHY
ELECTROGRAPHY
GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
HOLOGRAPHY
IRRADIATION DEVICES
MATERIALS THEREFOR
NUCLEAR ENGINEERING
NUCLEAR PHYSICS
OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
OPTICS
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOTOTHERWISE PROVIDED FOR
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Summary:본 발명은 특히 마이크로리소그래픽 투영 노광 장치용 미러에 관한 것이다. 본 발명에 따른 미러는 미러 기판(101)과, 광학적 유효면(100a) 상에 입사되는 전자기 방사선을 반사하기 위한 반사층 시스템(102)과, 광학적 유효면(100a)에 대면하는 반사층 시스템(102)의 측 상에 배열되고 제1 재료로부터 제조되는 캡핑층(104)을 포함하고, 개별적으로 또는 군집으로, 제2 재료의 입자(105)가 이 캡핑층(104) 상에 도포되고, 제2 재료는 상기 제1 재료와는 상이하다. A mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus, has a mirror substrate (101), a reflection layer system (102) configured to reflect electromagnetic radiation that is incident on the optically effective surface (100a), and a capping layer (104), which is arranged on the side of the reflection layer system (102) facing the optically effective surface. The capping layer is produced from a first material. Particles (105) of a second material, either individually or in clusters, are applied onto this capping layer, wherein the second material differs from the first material.
Bibliography:Application Number: KR20177029815