계산 효율적인 X 선 기반의 오버레이 측정

• Main Authors: BAKEMAN MICHAEL, SHCHEGROV ANDREI, HENCH JOHN
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 19.12.2017
• Subjects: INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES; MEASURING; PHYSICS; TESTING

x 선 회절 측정 데이터에 기초하여 디바이스 구조체의 오버레이 및 에지 배치 오차를 수행하기 위한 방법 및 시스템이 제시된다. 계측 타겟의 상이한 층 사이의 오버레이 오차는 다수의 상이한 입사각 및 방위각에서 측정되는 각각의 x 선 회절 차수 내의 강도 변동에 기초하여 추정된다. 오버레이의 추정은, 저주파 형상 변조가 기저 함수의 세트에 의해 설명되고 고주파 오버레이 변조가, 오버레이를 나타내는 파라미터를 포함하는 아핀 원형 함수에 의해 설명되도록, 공통 차수의 상기 강도 변조의 파라미터화를 수반한다. 오버레이에 추가하여, 계측 타겟의 형상 파라미터가, 측정된 회절 차수의 강도에 대한 측정 모델의 피팅 분석에 기초하여 추정된다. 몇몇 예에서, 오버레이의 추정 및 하나 이상의 형상 파라미터 값의 추정은 동시에 수행된다. Methods and systems for performing overlay and edge placement errors of device structures based on x-ray diffraction measurement data are presented. Overlay error between different layers of a metrology target is estimated based on the intensity variation within each x-ray diffraction order measured at multiple, different angles of incidence and azimuth angles. The estimation of overlay involves a parameterization of the intensity modulations of common orders such that a low frequency shape modulation is described by a set of basis functions and a high frequency overlay modulation is described by an affine-circular function including a parameter indicative of overlay. In addition to overlay, a shape parameter of the metrology target is estimated based on a fitting analysis of a measurement model to the intensities of the measured diffraction orders. In some examples, the estimation of overlay and the estimation of one or more shape parameter values are performed simultaneously.