기판을 평탄화하기 위한 시스템 및 방법

• Main Author: DEVILLIERS ANTON J
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 12.12.2017
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

본 기술들은 기판의 상이한 영역들에서 상이한 양의 물질이 제거될 수 있도록 선택적 또는 차별화된 평탄화를 제공하는 것을 포함한다. 일반적으로, 본원의 방법은 광 반응성 생성제 화합물을 사용하여 용해도 변경제를 생성한다. 이러한 광 반응성 생성제 화합물을 함유하는 기판 상에 특정 광패턴을 투영하여 기판에 걸쳐 특정 위치들에서 상이한 농도의 용해도 변경제(들)을 생성한다. 생성된 용해도 변경제가 하위층 내로 확산됨에 따라, 이러한 농도 차이는 기판 상의 특정 공간 위치들에서 주어진 막 또는 층으로부터 제거되는 물질의 양(높이 또는 깊이)을 제어한다. Techniques include providing selective or differential planarization such that different regions of a substrate can have different amounts of material removed. In general, methods herein use photo-reactive generator compounds to generate solubility-changing agents. A specific pattern of light is projected onto a substrate containing such photo-reactive generator compounds to create different concentrations of solubility-changing agent(s) at specific locations across a substrate. As generated solubility-changing agents are diffused into an underlying layer, these concentration differences then control an amount (height or depth) of material removed from a given film or layer at specific spatial locations on the substrate.