2 TWO STEP PHOTORESIST COMPOSITIONS AND METHODS

• Main Authors: LADA TOM, FROMMHOLD ANDREAS, BROWN ALAN, ROBINSON ALEX PHILIP GRAHAM
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 25.10.2017
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

본 발명은 신규한 2-단계 포토레지스트 조성물 및 공정에 관한 것이다. 공정은 1 단계에서 산-분해성기를 제거하는 단계 및 2 단계에서 잔류 물질을 그 자신 또는 첨가된 가교 시스템과 가교하는 단계를 포함한다. 레지스트 촉매 사슬에 다단계 경로를 포함하면 저용량의 조사를 받아, 빌트인(built-in) 용량 의존 ?처-유사체로서 효과적으로 작용하여 화학 구배를 향상시켜 해상도를 향상시키는 영역에서 화학 구배를 증가시킨다. 포토레지스트 조성물 및 방법은 예를 들면, 자외선 조사, 초극자외선 조사, 극자외선 조사, X-선 및 하전 입자선을 이용하는 미세 패턴 처리에 대하여 이상적이다. 듀얼 작용기 감광성 조성물 및 방법도 개시된다. The present disclosure relates to novel two-step photoresist compositions and processes. The processes involve removing acid-labile groups in step one and crosslinking the remaining material with themselves or added crosslinking systems in step two. The incorporation of a multistep pathway in the resist catalytic chain increases the chemical gradient in areas receiving a low dose of irradiation, effectively acting as a built in dose depend quencher-analog and thus enhancing chemical gradient and thus resolution. The photoresist compositions and the methods are ideal for fine pattern processing using, for example, ultraviolet radiation, beyond extreme ultraviolet radiation, extreme ultraviolet radiation, X-rays and charged particle rays. Dual functionality photosensitive compositions and methods are also disclosed.