METHOD FOR RASTERIZATION OF MASK LAYOUT AND METHOD OF FABRICATING PHOTOMASK USING THE SAME

• Main Authors: JEONG, MOON GYU, CAI SIBO
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 13.10.2017
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

포토 마스크의 제조를 위한 마스크 레이아웃의 래스터화 방법이 제공된다. 상기 방법은 컴퓨터의 이미지 변환부를 구동하여, 마스크 레이아웃의 래스터 이미지를 획득하는 것을 포함한다. 상기 래스터 이미지를 획득하는 것은 그리드 상에 상기 마스크 레이아웃으로부터 획득된 다각형 패턴을 제공하는 것, 상기 다각형 패턴의 일 변(an edge)을 둘러싸는 그리드 포인트들을 획득하는 것, 상기 다각형 패턴 상에 상기 변의 양 끝점으로부터 이에 인접하는 변들(edges)로 연장되는 경로(path)를 설정하는 것, 및 상기 그리드 포인트들의 각각에 래스터 값(rasterized value)을 할당하는 것을 포함한다. 상기 래스터 값은 상기 그리드 포인트들의 각각을 그 중심점으로 하는 픽셀과 상기 경로에 의해 한정된 상기 다각형 패턴의 중첩 면적이다. A method for rasterizing a mask layout includes driving an image converter to obtain a raster image of the mask layout. The raster image is obtained by providing a pattern from the mask layout on a grid, obtaining grid points surrounding an edge of the pattern, constructing a path on the pattern which extends from the edge toward adjacent edges of the pattern, and allocating a raster value to each of the grid points. The raster value corresponds to an overlap area between a pixel, having a center located on one of the grid points, and the pattern having a boundary limited by the path.