Composition of Matter and Molecular Resist Made Therefrom

• Main Authors: XUE XIANG, JACKSON EDWARD A, FROMMHOLD ANDREAS, LADA THOMAS, ROTH JOHN, ROBINSON ALEX PHILIP GRAHAM, YANG DONGXU
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 12.10.2017
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CHEMISTRY; CINEMATOGRAPHY; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HETEROCYCLIC COMPOUNDS; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; METALLURGY; ORGANIC CHEMISTRY; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

본 특허 출원은 용매; 및 하기 (I), (II) 또는 (III)으로부터 선택된 화학 구조를 갖는 에스테르;를 포함한 물질 조성물을 개시한다:여기서, X 및 Y는 동일하거나 상이하고, X 및 Y 중 적어도 하나는 산 불안정기를 포함하고, R은 1개 내지 4개의 탄소 원자를 갖는 포화 또는 불포화 기이고, R는 수소, 또는 1개 내지 4개의 탄소 원자를 갖는 포화 또는 불포화 기로부터 선택되고, R은 1개 내지 4개의 탄소 원자를 갖는 포화 또는 불포화 기이고, R는 1개 내지 4개의 탄소 원자를 갖는 포화 또는 불포화 기이고, A은 음이온이다. Disclosed and claimed herein is a composition of matter having a general structure chosen from (I), (II), (III) or (IV); wherein X and Y are the same or different, wherein at least one of X and Y comprises an acid labile group, wherein R1 is a saturated or unsaturated group having from 1-4 carbon atoms, R2 is chosen from hydrogen or a saturated or unsaturated group having from 1-4 carbon atoms, R3 is a saturated or unsaturated group having from 1-4 carbon atoms, and R4 is a saturated or unsaturated group having from 1-4 carbon atoms.