SUBSTRATE TREATMENT DEVICE AND SUBSTRATE TREATMENT METHOD

• Main Authors: YAMAZAKI KATSUHIRO, KOBAYASHI NOBUO, SASAHIRA KONOSUKE
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 12.10.2017
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

본 발명의 실시형태에 따르면, 기판의 처리 시에 있어서의 기판 오염을 막을 수 있다. 실시형태에 따른 기판 처리 장치(1)는, 기판을 회전시켜 세정 처리하는 기판 처리 장치에 있어서, 기판을 유지하는 스핀 유지 기구와, 상기 기판에 처리액을 공급하는 처리액 공급 노즐과, 상기 스핀 유지 기구에 유지된 상기 기판에 대향하여 배치되고, 상기 기판에 대하여 접촉/분리 방향으로 이동하는 차폐판과, 상기 차폐판을 회전시키는 차폐판 회전 기구와, 상기 기판에 처리액이 공급되고 있을 때, 상기 차폐판을 이동시키지 않고 상기 차폐판을 회전시키는...