PROJECTION EXPOSURE APPARATUS WITH WAVEFRONT MEASURING DEVICE AND OPTICAL WAVEFRONT MANIPULATOR

• Main Authors: GRUNER TORALF, HARTJES JOACHIM, SCHWAB MARKUS, BLEIDISTEL SASCHA, ARNZ MICHAEL
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 23.08.2017
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

투영 렌즈(12), 상기 투영 렌즈에서 파면을 조작하기 위한 광학 파면 조작기 및 파면 측정 장치를 갖는 투영 노광 장치로서, 상기 파면 측정 장치는 상기 투영 렌즈(12)의 오브젝트 평면(20)과 이미지 평면(22)에 개별적으로 배열되도록 설계되는 이미지 격자(18) 및 오브젝트 격자(16)를 갖는 무아레(Moire) 격자 배열(14)을 포함하고, 상기 오브젝트 격자(16) 및 상기 이미지 격자(18)는 상기 이미지 평면(22)과 상기 이미지 격자(18) 상에 상기 오브젝트 격자(16)의 이미징(24)으로부터의 무아레 중첩 패턴을 생성하기 위한 방식으로 축척에 맞는 방식으로 서로 조정되고, 상기 무아레 격자 배열(14)은 상기 이미지 평면(22)의 이미지 필드(28) 및/또는 상기 오브젝트 평면(20)의 오브젝트 필드(26)의 복수의 필드 포인트에 대한 무아레 중첩 패턴을 동시에 생성하도록 설계된다. A projection exposure apparatus includes a projection lens, a wavefront manipulator and a wavefront measuring device for measuring a wavefront in the projection lens. The wavefront measuring device includes a Moiré grating arrangement having an object grating and an image grating which are designed to be arranged in an object plane and an image plane, respectively, of the projection lens. The object grating and the image grating are coordinated with one another in a manner true to scale in such a way as to generate a Moiré superimposition pattern from an imaging of the object grating onto the image plane and the image grating. The Moiré grating arrangement is designed in such a way as to simultaneously generate the Moiré superimposition pattern for a plurality of field points of an object field in the object plane and/or of an image field in the image plane.