METHOD AND APPARATUS FOR USING PATTERNING DEVICE TOPOGRAPHY INDUCED PHASE

리소그래피 패터닝 디바이스의 패턴의 방사선에 의한 조명을 위해, 패턴의 3-차원 토포그래피에 의해 야기되는 계산된 파면 위상 정보를 얻는 단계; 및 파면 위상 정보에 기초하여 그리고 컴퓨터 프로세서를 이용하여, 조명의 파라미터를 조정하는 단계, 및/또는 패턴의 파라미터를 조정하는 단계를 포함하는 방법이 제공된다. A method including, for an illumination by radiation of a pattern of a lithographic patterning device, obtaining calculated...

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Main Author FINDERS JOZEF MARIA
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 22.08.2017
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
CINEMATOGRAPHY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
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Summary:리소그래피 패터닝 디바이스의 패턴의 방사선에 의한 조명을 위해, 패턴의 3-차원 토포그래피에 의해 야기되는 계산된 파면 위상 정보를 얻는 단계; 및 파면 위상 정보에 기초하여 그리고 컴퓨터 프로세서를 이용하여, 조명의 파라미터를 조정하는 단계, 및/또는 패턴의 파라미터를 조정하는 단계를 포함하는 방법이 제공된다. A method including, for an illumination by radiation of a pattern of a lithographic patterning device, obtaining calculated wavefront phase information caused by three-dimensional topography of the pattern, and based on the wavefront phase information, adjusting a parameter of the illumination and/or adjusting a parameter of the pattern.
Bibliography:Application Number: KR20177019737