PLASMA TREATMENT DEVICE

피처리체에 플라즈마 처리를 행하는 플라즈마 처리 장치는, 피처리체를 수용하는 처리 용기와, 상기 처리 용기의 상부의 개구부를 밀봉하도록 마련되고, 상기 처리 용기 내에 마이크로파를 투과시키는 유전체창과, 상기 유전체창의 상면에 마련되고, 상기 유전체창에 마이크로파를 방사하기 위한 복수의 슬롯이 형성된 슬롯판을 가지고, 상기 유전체창의 하면에는, 그 하면으로부터 하방으로 돌기한 돌기부가 상기 슬롯에 대응하는 위치에 마련되며, 마이크로파의 파장(λ)에 대하여, 상기 돌기부의 폭은 λ/4±λ/8이다. Disclosed is a plasm...

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Main Authors IWAO TOSHIHIKO, HIRANO TAKAHIRO
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 17.08.2017
Subjects
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
ELECTRICITY
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Summary:피처리체에 플라즈마 처리를 행하는 플라즈마 처리 장치는, 피처리체를 수용하는 처리 용기와, 상기 처리 용기의 상부의 개구부를 밀봉하도록 마련되고, 상기 처리 용기 내에 마이크로파를 투과시키는 유전체창과, 상기 유전체창의 상면에 마련되고, 상기 유전체창에 마이크로파를 방사하기 위한 복수의 슬롯이 형성된 슬롯판을 가지고, 상기 유전체창의 하면에는, 그 하면으로부터 하방으로 돌기한 돌기부가 상기 슬롯에 대응하는 위치에 마련되며, 마이크로파의 파장(λ)에 대하여, 상기 돌기부의 폭은 λ/4±λ/8이다. Disclosed is a plasma processing apparatus for performing a plasma processing on a workpiece. The apparatus includes: a processing container that accommodates the workpiece; a dielectric window that is provided to seal an opening in an upper portion of the processing container and transmits microwaves into the processing container; and a slot plate that is provided on an upper surface of the dielectric window and has a plurality of slots formed to radiate the microwaves to the dielectric window. The dielectric window includes a protrusion protruding downward from a lower surface of the dielectric window at a position corresponding to each of the slot, and a width of the protrusion is λ/4±λ/8 with respect to a wavelength λ of the microwaves.
Bibliography:Application Number: KR20177016292