LITHOGRAPHY APPARATUS COMPRISING A PLURALITY OF INDIVIDUALLY CONTROLLABLE WRITE HEADS

• Main Authors: RICHTER STEFAN, GEISSLER ENRICO, VOELCKER MARTIN, DEGUNTHER MARKUS, DOERING DIRK, RUDOLPH GUENTER, LAKSHMANAN SENTHIL KUMAR
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 14.08.2017
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

본 발명은 기판 웨이퍼(300)에 기록하기 위한 리소그래피 장치(100)에 관한 것이며, - 광을 생성하기 위한 하나 또는 복수의 광원(lll, 112, 113)을 포함하는 광 생성 장치(110), - 상기 광 생성 장치(110)로부터 기록 장치(140)에 광을 전달하기 위한 복수의 광 도파관(121-121)을 포함하는 광 전달 장치(120), - 기판 웨이퍼(300)의 상이한 영역에 하나 또는 복수의 광원(lll, 112, 113)으로부터의 광을 투영하기 위한 복수의 개별적으로 제어가능한 기록 헤드(200)를 포함하는 기록 장치(140), - 미리 규정된 수송 방향(x)으로 상기 기록 장치(140)에 대하여 상기 기판 웨이퍼(300)를 이동시키기 위한 수송 장치(150) 및 - 상기 기판 웨이퍼(300) 상의 기록 공정을 제어하기 위한 제어 장치(170)를 포함한다. The disclosure relates to a lithography apparatus for writing to substrate wafers. The apparatus includes: a light generating device including one or a plurality of light sources for generating light; a writing device; a light transferring device including a number of optical waveguides for transferring the light from the light generating device to a writing device, the writing device including a plurality of individually controllable write heads for projecting the light from the one or the plurality of light sources in different regions of a substrate wafer; a transport device for moving the substrate wafer relative to the writing device in a predefined transport direction; and a control device for controlling the writing process on the substrate wafer.