CONNECTING ARRANGEMENT FOR A LITHOGRAPHY SYSTEM

• Main Authors: SCHAFFER DIRK, PROCHNAU JENS, WURMBRAND ANDREAS
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 14.08.2017
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

제1 구성요소(212), 제2 구성요소(206), 제1 접합부(220)에서 제1 구성요소(212)에 해제가능하게 연결되는 제1 인터페이스 요소(210), 및 제2 접합부(222)에서 제2 구성요소(206)에 해제가능하게 연결되는 제2 인터페이스 요소(218)를 갖는 리소그래피 시스템(100)용 연결 장치(200A, 200B)가 개시된다. 제1 인터페이스 요소(210)는 제1 접촉면(226)을 갖고, 제2 인터페이스 요소(218)는 제2 접촉면(228)을 갖고, 2개의 접촉면(226, 228) 중 적어도 하나는 2개의 접촉면(226, 228)이 제3 접합부(224)에서 연결되기 전에 제1 구성요소(212)와 제2 구성요소(206) 사이의 오프셋을 보상하기 위해 정렬 및/또는 선택되게 하기 위해 구성된다. 제1 인터페이스 요소(210)의 제1 접촉면(226) 및 제2 인터페이스 요소(218)의 제2 접촉면(228)은 제3 접합부(224)에서 재료 끼워맞춤 연결에 의해 연결된다. A connecting arrangement (200A, 200B) for a lithography system (100) is disclosed, which has a first component (212), a second component (206), a first interface element (210), which is releasably connected to the first component (212) at a first junction (220), and a second interface element (218), which is releasably connected to the second component (206) at a second junction (222). The first interface element (210) has a first contact surface (226), the second interface element (218) has a second contact surface (228), and at least one of the two contact surfaces (226, 228) is configured in order to be aligned and/or selected in order to compensate for an offset between the first component (212) and the second component (206) before the two contact surfaces (226, 228) are connected at a third junction (224). The first contact surface (226) of the first interface element (210) and the second contact surface (228) of the second interface element (218) are connected by means of a material-fit connection at the third junction (224).