MALFUNCTION DETECTION METHOD IN MICROWAVE INTRODUCTION MODULES

플라즈마 처리 장치(1)는, 처리 용기(2)와, 복수의 마이크로파 도입 모듈(61)을 갖는 마이크로파 도입 장치(5)를 구비하고 있다. 복수의 마이크로파 도입 모듈(61)마다 마이크로파를 도입하고, 이 마이크로파와, 처리 용기(2)로부터 복수의 마이크로파 도입 모듈(61)에 반사된 반사 마이크로파에 기초하여, 복수의 마이크로파 도입 모듈(61)의 조합마다의 S 파라미터를 구한다. A plasma processing apparatus (1) includes a processing container (2) and a microwave...

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Main Authors ADACHI HIKARU, OSADA YUKI, FUJINO YUTAKA, MIYASHITA HIROYUKI, YAMAMOTO NOBUHIKO, IKEDA TARO
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 14.07.2017
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Summary:플라즈마 처리 장치(1)는, 처리 용기(2)와, 복수의 마이크로파 도입 모듈(61)을 갖는 마이크로파 도입 장치(5)를 구비하고 있다. 복수의 마이크로파 도입 모듈(61)마다 마이크로파를 도입하고, 이 마이크로파와, 처리 용기(2)로부터 복수의 마이크로파 도입 모듈(61)에 반사된 반사 마이크로파에 기초하여, 복수의 마이크로파 도입 모듈(61)의 조합마다의 S 파라미터를 구한다. A plasma processing apparatus (1) includes a processing container (2) and a microwave introduction device (5) having a plurality of microwave introduction modules (61). A microwave is introduced for each of the plurality of microwave introduction modules (61), and S-parameters for each of combinations of the plurality of microwave introduction modules (61) are obtained based on the introduced microwave and a reflected microwave reflected from the processing container (2) into the plurality of microwave introduction modules (61).
Bibliography:Application Number: KR20177018571