SUBSTRATE PROCESSING METHOD AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM

• Main Authors: MARUMOTO HIROSHI, KAWANO HISASHI, NAKAMORI MITSUNORI, KIYOSE HIROMI, MITSUOKA KAZUYUKI
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 05.07.2017
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

도괴된 패턴을 복원한다. 기판 처리 방법은, 복수의 볼록부(2)를 갖는 패턴이 표면에 형성된 기판에, 처리액을 공급하는 액 처리 공정과, 상기 기판의 표면에 존재하는 상기 처리액을 제거하고, 기판을 건조시키는 건조 공정과, 상기 건조 공정 후, 서로 인접하는 상기 볼록부의 접합부(2a)를 분리시키는 분리 공정을 구비한다. A substrate processing method according to the present disclosure includes: a liquid processing process of supplying a...