SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS SUBSTRATE PROCESSING METHOD AND STORAGE MEDIUM

• Main Authors: TAKAHASHI SHUHEI, HIDAKA SHOICHIRO
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 05.07.2017
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

본 발명은 기판의 개체차에 영향을 받지 않고, 적절한 건조 코어를 확실하게 형성하는 것을 목적으로 한다. 용제 노즐(412)로부터 회전하고 있는 기판의 중심부에 유기 용제를 공급하여, 기판 표면에 유기 용제의 액막을 형성하고, 그 후, 유기 용제의 공급을 정지한다. 그 후, 회전하고 있는 기판의 중심부에 있는 유기 용제의 액막의 두께가 미리 정해진 값까지 감소한 것이 비접촉식의 막 두께 센서(22)에 의해 검출되면, 건조 가스 공급부에 가스 노즐(421)에의 건조 가스의 공급을 개시시키거나, 가스 노즐에의 상기 건조 가스의 공급량을 증대시킨다. 회전하고 있는 상기 기판의 중심부를 향하여 가스 노즐로부터 토출되는 가스에 의해, 기판의 중심부에 있는 유기 용제를 기판의 둘레 가장자리측을 향하여 밀어낸다. 이에 의해, 적절한 건조 코어(CD)를 확실하게 형성할 수 있다. PROBLEM TO BE SOLVED: To form an appropriate dry core securely, without being affected by individual difference of the substrate.SOLUTION: An organic solvent is supplied from a solvent nozzle (412) to the central part of a rotating substrate, and a liquid film of the organic solvent is formed on the surface of the substrate, before stopping organic solvent supply. Thereafter, when a fact that the thickness of the liquid film of organic solvent in the center of the rotating substrate has reduced to a predetermined value is detected by a noncontact film thickness sensor (22), dry gas supply to a gas nozzle (421) is started by a dry gas supply section, or the supply amount of dry gas to the gas nozzle is increased. The organic solvent in the central part of the substrate is pushed away toward the peripheral side thereof, by the gas discharged from the gas nozzle toward the central part of the rotating substrate. Consequently, an appropriate dry core (CD) can be formed securely.SELECTED DRAWING: Figure 5