PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION INSULATING FILM USING THE SAME AND PRINTED CIRCUIT BOARD COMPRISING THE FILM
본 발명은 감광성 수지 조성물, 그 조성물로 제조된 절연필름 및 그 절연필름을 포함하는 인쇄회로기판에 관한 것이다. 본 발명에 일 실시예에 따른 감광성 수지 조성물은 포토리소그래피 공법(photolithography)을 통한 비아홀 형성이 용이하며, 염기 현상성을 가지면서 패터닝이 가능하고, 동도금에 대한 밀착력을 개선할 수 있다. PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive resin composition allowing easy formation of via holes, an insu...
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Format | Patent |
Language | English Korean |
Published |
28.06.2017
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Summary: | 본 발명은 감광성 수지 조성물, 그 조성물로 제조된 절연필름 및 그 절연필름을 포함하는 인쇄회로기판에 관한 것이다. 본 발명에 일 실시예에 따른 감광성 수지 조성물은 포토리소그래피 공법(photolithography)을 통한 비아홀 형성이 용이하며, 염기 현상성을 가지면서 패터닝이 가능하고, 동도금에 대한 밀착력을 개선할 수 있다.
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive resin composition allowing easy formation of via holes, an insulation film made of the composition, and a printed circuit board comprising the insulation film.SOLUTION: A photosensitive resin composition comprises: a binder having alkali developable and photocurable functional groups; a photopolymerizable monomer; a thermosetting epoxy resin; silica; a photoinitiator; and a curing catalyst. After curing and surface roughening treatment, the number of silica particles exposed to a surface of 5×5 μmis from 10 to 50.SELECTED DRAWING: None |
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Bibliography: | Application Number: KR20150181633 |