EUV EUV LITHOGRAPHY SYSTEM AND OPERATING METHOD

• Main Authors: LOGTENBERG HELLA, OSORIO EDGAR, EHM DIRK HEINRICH, SCHMIDT STEFAN WOLFGANG, ZELLENRATH MARK, TE SLIGTE EDWIN
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 21.06.2017
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

본 발명은 EUV 리소그래피 시스템(1)의 진공 환경(17) 내에 배열된 광학면(13a, 14a)을 갖는 적어도 하나의 광학 요소(13, 14), 및 적어도 하나의 실리콘 함유면(29a)이 배열되어 있는 진공 환경(17) 내로 수소를 공급하기 위한 공급 디바이스(27)를 포함하는 EUV 리소그래피 시스템(1)에 관한 것이다. 공급 디바이스(27)는 진공 환경(17) 내로 산소 함유 가스를 또한 공급하기 위해 설계되고, 적어도 하나의 실리콘 함유면(29a)에서 그리고/또는 광학면(13a, 14a)에서 산소 부분 압력(PO2)을 설정하...