PHASE SHIFT MASK FOR DISPLAY AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

• Main Authors: CHOI, SANG SOO, HUR, IK BOUM
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 01.06.2017
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; DEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH ISMODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THEDEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY,COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g.SWITCHING, GATING, MODULATING OR DEMODULATING; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; FREQUENCY-CHANGING; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; NON-LINEAR OPTICS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES; TECHNIQUES OR PROCEDURES FOR THE OPERATION THEREOF

패턴 구조 및 공정 간소화를 통해 마스크 제조 비용을 절감할 수 있는 디스플레이용 위상반전마스크 및 그 제조 방법에 대하여 개시한다. 본 발명에 따른 디스플레이용 위상반전마스크는 액티브 영역과, 상기 액티브 영역과 이격된 외측에 배치되는 비액티브 영역과, 상기 액티브 영역 및 비액티브 영역 사이에 배치되는 블라인드 영역을 갖는 투명 기판; 상기 투명 기판 상의 액티브 영역에 형성되어, 입사광의 투과율을 조절하는 제1 위상반전 패턴; 및 상기 투명 기판의 블라인드 영역 및 비액티브 영역에 배치되며, 상기 제1 위상반전 패턴과 동일층에 동일한 두께로 형성된 제2 위상반전 패턴;을 포함하며, 상기 제1 및 제2 위상반전 패턴 각각은 5 ~ 50%의 반사율을 갖는 것을 특징으로 한다.