MODEL-BASED PROCESS SIMULATION SYSTEMS AND METHODS

• Main Authors: SHAO WENJIN, YE JUN, GOOSSENS RONALD, KOONMEN JIM, CAO YU
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 31.05.2017
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

공정 시뮬레이션에 대한 시스템들 및 방법들이 개시된다. 상기 방법들은 튜닝가능한 파라미터들의 일 세트에 대한 기준 스캐너의 감도를 식별하는 기준 모델을 이용할 수 있다. 칩 디자인으로부터의 칩 제작은 기준 모델을 이용하여 시뮬레이션될 수 있으며, 칩 디자인은 1 이상의 마스크로서 표현된다. 시뮬레이션된 칩의 임계 치수를 최적화하고, 예상된 칩들과 시뮬레이션된 칩들의 수렴을 얻기 위해, 반복적인 재튜닝 및 시뮬레이션 공정이 사용될 수 있다. 추가적으로, 결과들의 일 세트가 디자이너에 제공될 수 있으며, 이로부터 업데이트된 칩 디자인이 생성된다. Systems and methods for tuning photolithographic processes are described. A model of a target scanner is maintained defining sensitivity of the target scanner with reference to a set of tunable parameters. A differential model represents deviations of the target scanner from the reference. The target scanner may be tuned based on the settings of the reference scanner and the differential model. Performance of a family of related scanners may be characterized relative to the performance of a reference scanner. Differential models may include information such as parametric offsets and other differences that may be used to simulate the difference in imaging behavior.