METHOD FOR PRODUCING A MASK FOR THE EXTREME ULTRAVIOLET WAVELENGTH RANGE MASK AND DEVICE

• Main Authors: CAPELLI RENZO, BLUMRICH JORG FREDERIK, PETERS JAN HENDRIK, GARETTO ANTHONY
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 11.05.2017
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

결함들(220, 320, 520, 620, 920)을 갖는 마스크 블랭크들(mask blank)(250, 350, 550, 950)로부터 나오는 극자외선 파장 범위용 마스크를 제조하는 방법으로서, 상기 방법은: a. 적어도 하나의 제 1 그룹 및 제 2 그룹으로 상기 결함들(220, 320, 520, 620, 920)을 분류하는 단계; b. 배열된 상기 흡수재 패턴(170)에 의해 상기 제 1 그룹의 최대 수의 결함들을 보상하기 위해 상기 마스크 블랭크(250, 350, 550, 950) 상의 흡수재 패턴(170)의 배열을 최적화하는 단계; 및 c. 상기 마스크 블랭크(250, 350, 550, 950)에 상기 최적화된 흡수재 패턴(170)을 적용하는 단계를 더 포함하는, 마스크를 제조하는 방법. A method for producing a mask for the extreme ultraviolet wavelength range proceeding from a mask blank having defects is provided. The method includes classifying the defects into at least one first group and one second group; optimizing the arrangement of an absorber pattern on the mask blank in order to compensate for a maximum number of the defects of the first group by means of the arranged absorber pattern; and applying the optimized absorber pattern to the mask blank.