METHOD OF MEASURING A PROPERTY OF A TARGET STRUCTURE INSPECTION APPARATUS LITHOGRAPHIC SYSTEM AND DEVICE MANUFACTURING METHOD

• Main Authors: BOZKURT MURAT, JAK MARTIN JACOBUS JOHAN, TINNEMANS PATRICIUS ALOYSIUS JACOBUS
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 11.05.2017
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CALCULATING; CINEMATOGRAPHY; COMPUTING; COUNTING; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

타겟 구조체의 속성이 타겟의 이미지의 세기에 기초하여 측정된다. 방법은 (a) 타겟 구조체의 이미지를 얻는 단계; (b) 복수의 후보 관심 구역들을 정의하는 단계(1204) -각각의 후보 관심 구역은 이미지 내의 복수의 픽셀들을 포함함- ; (c) 관심 구역 내에서의 픽셀들의 신호 값들에 적어도 부분적으로 기초하여 후보 관심 구역들에 대한 최적화 메트릭 값을 정의하는 단계(1208, 1216); (d) 타겟 신호 값에 대한 이미지 내의 각각의 픽셀의 기여를 정의하는 타겟 신호 함수를 정의하는 단계(1208, 1216)를 포함한다. 각각의 픽셀의 기여는 (ⅰ) 어느 후보 관심 구역들이 그 픽셀을 포함하는지, 및 (ⅱ) 그 후보 관심 구역들의 최적화 메트릭 값들에 의존한다. A property of a target structure is measured based on intensity of an image of the target. The method includes (a) obtaining an image of the target structure; (b) defining a plurality of candidate regions of interest, each candidate region of interest comprising a plurality of pixels in the image; (c) defining an optimization metric value for the candidate regions of interest based at least partly on signal values of pixels within the region of interest; (d) defining a target signal function which defines a contribution of each pixel in the image to a target signal value. The contribution of each pixel depends on (i) which candidate regions of interest contain that pixel and (ii) optimization metric values of those candidate regions of interest.