PHOTOLITHOGRAPHIC PATTERNING OF DEVICES

• Main Authors: BYRNE FRANK XAVIER, DEFRANCO JOHN ANDREW, WRIGHT CHARLES WARREN, ROBELLO DOUGLAS ROBERT, FREEMAN DIANE CAROL, O'TOOLE TERRENCE ROBERT
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 11.05.2017
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

장치의 제조방법은 패터닝을 위한 하나 이상의 타겟 구역을 갖는 장치 기판 위에 플루오린화 재료층을 제공하는 것을 포함한다. 하나 이상의 리프트-오프 구조는 제1 속도로 플루오린화 재료를 용해시키는 플루오린화 용매를 포함하는 현상제와의 접촉에 의해 하나 이상의 타겟 구역과 가지런하게 적어도 부분적으로 플루오린화 재료층 내 하나 이상의 오픈 구역의 제1 패턴을 현상하여 형성된다. 패터닝 이후, 리프트-오프 구조는 플루오린화 용매를 포함하는 리프트-오프제와의 접촉에 의해 제거되고 상기 리프트-오프제는 150 nm/sec 이상이고 제1 속도보다 높은 제2 속도로 플루오린화 재료를 용해시킨다. A method of making a device includes providing a fluorinated material layer over the device substrate having one or more target areas for patterning. One or more lift-off structures are formed at least in part by developing a first pattern of one or more open areas in the fluorinated material layer in alignment with the one or more target areas by contact with a developing agent including a fluorinated solvent which dissolves the fluorinated material at a first rate. After patterning, the lift-off structures are removed by contact with a lift-off agent including a fluorinated solvent wherein the lift-off agent dissolves the fluorinated material at a second rate that is at least 150 nm/sec and higher than the first rate.