SUSCEPTOR FOR HOLDING A SEMICONDUCTOR WAFER HAVING ORIENTATION NOTCH A METHOD FOR DEPOSITING A LAYER ON A SEMICONDUCTOR WAFER AND SEMICONDUCTOR WAFER

• Main Authors: SCHAUER REINHARD, HAGER CHRISTIAN
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 10.05.2017
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

The present invention relates to a susceptor to maintain a semiconductor wafer having an orientation notch while depositing a layer on a front side of the semiconductor wafer, comprising: a placement surface for arranging a semiconductor wafer in an edge region of a rear side of the semiconductor wafer; a stepped outer delimitation portion of the placement surface; and an indentation of the outer delimitation of the placement surface for arranging an edge region of the rear side of the semiconductor wafer on which the orientation notch is positioned on a partial region of the placement surface limited by the indentation of the outer delimitation of the placement surface. According to the method for depositing a layer on the semiconductor wafer having the orientation notch, a susceptor is used, and the semiconductor wafer is manufactured in a single crystalline silicon wafer. 본 발명은 반도체 웨이퍼의 전측 상의 층의 퇴적 동안 배향 노치를 갖는 반도체 웨이퍼를 유지하기 위한 서셉터로서, 반도체 웨이퍼를 반도체 웨이퍼의 후측의 에지 영역에 배치시키기 위한 배치면; 배치면의 계단형 외측 한정부; 및 배치면의 외측 한정부의 인덴테이션에 의해 한정되는 배치면의 부분 영역 상에, 배향 노치가 위치되는 반도체 웨이퍼의 후측의 에지 영역의 부분 영역을 배치시키기 위한, 배치면의 외측 한정부의 인덴테이션을 포함한다. 배향 노치를 갖는 반도체 웨이퍼 상에 층을 퇴적시키기 위한 방법에서, 서셉터가 사용되고, 반도체 웨이퍼는 단결정 실리콘으로 제조된다.