CS-ALD Shower head of Combinatorial Spatial Atomic Layer Deposition apparatus

• Main Authors: WENXU XIANYU, KIM, YONG SUNG, YANG, WOO YOUNG, SHIN, JAI KWANG
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 08.03.2017
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

Disclosed is a shower head of a combinatorial spatial atomic layer deposition (CS-ALD) apparatus. The showerhead of the disclosed CS-ALD apparatus comprises a plurality of shower blocks. Each of the plurality of shower blocks includes a plurality of unit modules. The shower block and the unit module are independently controlled. Each of the plurality of unit modules includes a source gas injection nozzle, a purge gas injection nozzle, a reaction gas injection nozzle, and an emission area between the injection nozzles. The plurality of shower blocks can be spaced apart from each other. The gas injection area of the injection nozzles can be spaced apart from the emission area. CS-ALD(Combinatorial Spatial Atomic Layer Deposition) 장치의 샤워헤드에 관해 개시되어 있다. 개시된 CS-ALD 장치의 샤워헤드는 복수의 샤워블록을 포함하고, 상기 복수의 샤워블록은 각각 복수의 단위모듈을 포함한다. 상기 샤워블록과 상기 단위모듈은 독립적으로 제어되는 개체이고, 상기 복수의 단위모듈은 각각 소스가스 분사노즐, 퍼지가스 분사노즐, 반응가스 분사노즐 및 상기 분사노즐들 사이에 배출영역을 포함한다. 상기 복수의 샤워블록은 서로 이격될 수 있다. 상기 분사노즐들의 가스 분사영역은 상기 배출영역과 이격될 수 있다.