ION IMPLANTATION SOURCE WITH TEXTURED INTERIOR SURFACES

이온 주입 시스템은, 이온 소스 챔버의 내부 벽들 상에서의 표면 막 박리를 감소시키도록 텍스쳐링된 표면을 갖는 이온 소스 챔버를 포함한다. 잔류 응력은, 온도 변화로 인한 열 팽창 불일치 및 막과 기판(라이너들) 간의 인장 잔류 응력으로부터 비롯된다. 텍스쳐링된 피쳐(feature)는, 너비 대 두께 비를 변경함으로써, 자신의 파단(fracture) 인장 응력에 피쳐가 도달하는 경우에 박리할 것이다. 기계 텍스쳐링된 표면은, 이온 소스 챔버의 표면 상에 축적되는 막의 기계적 인터로킹을 증가시키며, 이는, 박리를 지연시키고 그리고 결...

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Main Authors COLVIN NEIL, HSIEH TSEH JEN
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 21.02.2017
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Summary:이온 주입 시스템은, 이온 소스 챔버의 내부 벽들 상에서의 표면 막 박리를 감소시키도록 텍스쳐링된 표면을 갖는 이온 소스 챔버를 포함한다. 잔류 응력은, 온도 변화로 인한 열 팽창 불일치 및 막과 기판(라이너들) 간의 인장 잔류 응력으로부터 비롯된다. 텍스쳐링된 피쳐(feature)는, 너비 대 두께 비를 변경함으로써, 자신의 파단(fracture) 인장 응력에 피쳐가 도달하는 경우에 박리할 것이다. 기계 텍스쳐링된 표면은, 이온 소스 챔버의 표면 상에 축적되는 막의 기계적 인터로킹을 증가시키며, 이는, 박리를 지연시키고 그리고 결과적인 박편의 사이즈를 감소시키고, 그에 의해, 박편이 편향된 컴포넌트를 그라운드 기준 표면에 브릿징할 가능성을 감소시키고, 그에 대응하여 이온 소스의 수명을 증가시킨다. An ion implementation system includes an ion source chamber having a textured surfaced to reduce surface film delamination on the interior walls of the ion source chamber. The residual stresses originated from the thermal expansion mismatch due to temperature changes and the tensile residual stress between film and the substrate (liners). The textured feature alters the width to thickness ratio so that it will peel off when it reaches its fracture tensile stress. The machine textures surface increases the mechanical interlocking of the film that builds up on the surface of the ion source chamber, which delays delamination and reduces the size of the resulting flake thereby reducing the likelihood that the flake will bridge a biased component to a ground reference surface and correspondingly increases the life of the ion source.
Bibliography:Application Number: KR20167037005