COMPOUND IMAGING METROLOGY TARGETS

• Main Authors: GHINOVKER MARK, ITZKOVICH TAL, AMIR NURIEL, YOHANAN RAVIV, AMIT ERAN
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 15.02.2017
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CALCULATING; CINEMATOGRAPHY; COMPUTING; COUNTING; ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

적어도 2개의 측정 방향들을 따른 1차원(1D) 이미징 계측 신호들을 제공하도록 설계된 1D 엘리먼트들과 적어도 하나의 2차원(2D) 이미징 계측 오버레이 신호를 제공하도록 설계된 2D 엘리먼트들을 결합하는 이미지 계측 타겟들 및 방법들이 제공된다. 1D 엘리먼트들의 타겟 영역은 2D 엘리먼트들을 둘러쌀 수 있고, 또는 1D 및 2D 엘리먼트들의 타겟 영역들은 부분적으로 또는 완전히 형태가 동일하게 될 수 있다. 복합 타겟들은 작고, 가능한 다층화되고, 프로세스 호환 가능하도록(예컨대, 엘리먼트들, 엘리먼트들 사이의 인터스페이스들, 및 엘리먼트 백그라운드들의 세그먼테이션에 의해) 그리고 가능한 다이 내에 생성되도록 설계될 수 있다. 2D 엘리먼트들은 추가의 1차원 계측 신호들을 제공하기 위해 주기적이 되도록 설계될 수 있다. Imaging metrology targets and methods are provided, which combine one-dimensional (1D) elements designed to provide 1D imaging metrology signals along at least two measurement directions and two-dimensional (2D) elements designed to provide at least one 2D imaging metrology overlay signal. The target area of the 1D elements may enclose the 2D elements or the target areas of the 1D and 2D elements may be partially or fully congruent. The compound targets are small, possibly multilayered, and may be designed to be process compatible (e.g., by segmentation of the elements, interspaces between elements and element backgrounds) and possibly be produced in die. Two dimensional elements may be designed to be periodic to provide additional one dimensional metrology signals.