METHOD FOR FABRICATING ELECTRONIC DEVICE
Provided is a method for fabricating an electronic device. The method for fabricating an electronic device according to an embodiment of the present invention, wherein the electronic device includes a variable resistance element comprising: a free layer which is formed on a substrate and has a chang...
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Format | Patent |
Language | English Korean |
Published |
03.02.2017
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Summary: | Provided is a method for fabricating an electronic device. The method for fabricating an electronic device according to an embodiment of the present invention, wherein the electronic device includes a variable resistance element comprising: a free layer which is formed on a substrate and has a changeable magnetization direction; a pinned layer having a fixed magnetization direction; a tunnel barrier layer disposed between the free layer and the pinned layer; a magnetic correction layer reducing an effect of a stray field generated by the pinned layer; and a spacer layer which is disposed between the magnetic correction layer and the pinned layer and provides an antiferromagnetic exchange coupling therebetween, may comprise a step of cooling the substrate before forming the spacer layer so as to form the spacer layer on a cooled substrate. Therefore, the properties of the variable resistance element can be improved.
전자 장치의 제조 방법이 제공된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 전자 장치의 제조 방법은, 기판 상에 형성되고 변경 가능한 자화 방향을 갖는 자유층, 고정된 자화 방향을 갖는 고정층, 상기 자유층과 상기 고정층 사이에 개재되는 터널 베리어층, 상기 고정층에 의해 생성되는 표류자계의 영향을 감소시키는 자기 보정층, 및 상기 자기 보정층과 상기 고정층 사이에 개재되어 상기 자기 보정층과 상기 고정층 사이의 반강자성 교환 결합을 제공하는 스페이서층을 포함하는 가변 저항 소자를 포함하는 전자 장치의 제조 방법으로서, 상기 스페이서층이 냉각된 기판 상에 형성되도록, 상기 스페이서층의 형성 단계 전에 상기 기판을 냉각시키는 단계를 포함할 수 있다. |
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Bibliography: | Application Number: KR20150104875 |