THERMAL PROCESSING SUSCEPTOR

• Main Authors: YE ZHIYUAN, HUANG YI CHIAU, CONG ZHEPENG, BAUTISTA KEVIN JOSEPH, LO KIN PONG, BRILLHART PAUL, CHANG ANZHONG, NGO ANHTHU, TONG EDRIC, MACK JAMES FRANCIS, SHAH KARTIK, CHU SCHUBERT S, ZHU ZUOMING, MYO NYI O, RAMACHANDRAN BALASUBRAMANIAN, LI XUEBIN
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 02.02.2017
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

일 실시예에서, 열 처리를 위한 서셉터가 제공된다. 서셉터는, 내부 접시를 둘러싸며 내부 접시에 연결되는 외부 림을 포함하고, 외부 림은 내부 에지 및 외부 에지를 갖는다. 서셉터는, 기판이 서셉터에 의해 지지될 때, 기판과 서셉터 사이의 접촉 표면적을 감소시키기 위한 하나 이상의 구조물을 더 포함한다. 하나 이상의 구조물 중 적어도 하나의 구조물은 외부 림의 내부 에지 부근에서 내부 접시에 연결된다. In one embodiment, a susceptor for thermal processing is provided. The susceptor includes an outer rim surrounding and coupled to an inner dish, the outer rim having an inner edge and an outer edge. The susceptor further includes one or more structures for reducing a contacting surface area between a substrate and the susceptor when the substrate is supported by the susceptor. At least one of the one or more structures is coupled to the inner dish proximate the inner edge of the outer rim.