SUBSTRATE LIQUID PROCESSING APPARATUS SUBSTRATE LIQUID PROCESSING METHOD AND STORAGE MEDIUM

• Main Authors: HYAKUTAKE HIRONOBU, KANZAKI KOICHIRO, TSUCHIYA TAKAFUMI
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 02.02.2017
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

The present invention relates to a liquid treatment apparatus for a substrate, capable of suppressing liquid component concentration in a treatment vessel from being lowered just after a substrate is inserted. The liquid treatment apparatus for a substrate comprises a control unit (5). The control unit performs a first control as a feedback control of supplementing treatment liquid with a liquid component by liquid component supply units (42, 43) so that the concentration of the liquid component included in the treatment liquid in the treatment vessel (21) is not less than a predetermined permissible minimum value based on the concentration of the liquid component detected by a concentration detection unit (441). In addition to the first control, the control unit performs a second control of supplementing the treatment liquid with a predetermined amount of the liquid component, which is required to suppress a decrease in the concentration of the liquid component caused by the insertion of the substrate, by the liquid component supply units just before or after the substrate is put in the treatment liquid in the treatment vessel or during the insertion of the substrate. 본 발명은 기판을 투입한 직후에 있어서의 처리조 내의 약액 성분 농도의 저하를 억제하는 것을 목적으로 한다. 기판 액처리 장치의 제어부(5)는, 농도 검출부(441)에 의해 검출된 약액 성분의 농도에 기초하여, 처리조(21) 내의 처리액 중에 포함되는 약액 성분의 농도가 미리 정해진 허용 하한값 미만으로 되지 않도록, 약액 성분 공급부(42, 43)에 의해 처리액에 약액 성분을 보충하는 피드백 제어로서의 제1 제어를 실행한다. 제어부는, 제1 제어와는 별도로, 처리조 내의 처리액 중에 기판이 투입되기 전 혹은 투입된 직후에, 또는 기판의 투입 전으로부터 투입 후에 걸쳐, 상기 기판의 투입에 기인하여 발생하는 약액 성분 농도의 저하를 상쇄하기 위해서 필요한 미리 정해진 양의 약액 성분을, 약액 성분 공급부에 의해 처리액에 보충하는 제2 제어를 실행한다.